真的很难造出高端光刻机 看看世界光刻机发展历程就知道了

光刻机一直都是大家关注的焦点，这里我们先回到光刻机发展的初期来看一下光刻机发展的完整历程，你就会明白中国光刻机如果只是单纯的靠市场甚至行业本身推动，是根本无法追上国际光刻机的脚步的!

60-70年代是光刻机的早期发展阶段，那个时候光刻机还是一个很简单的一个工业身边，原理其实就像幻灯片类似，就是把光通过带电路图的光罩投影到有光敏胶的晶圆上，那时光刻机并不算是什么高科技产品，半导体公司如英特尔刚开始也是自己设计自己使用，后来日本的尼康和佳能也进入了这个领域!

直到80年代，光刻机市场还很小，一年出售十几台都算大厂了，因为很多半导体厂商一台设备能用很多年，因为市场小竞争也很激烈，谁的技术先进就会买谁的。刚开始美国的GCA比较领先，后来由于GCA的镜片组来自蔡司，不像尼康自己拥有镜头技术，因为尼康刚好是做相机的，镜片都能自己做，这就是为什么在高端技术行业，产业链尤为重要的原因。到了1984年，尼康凭借着日本半导体产业链最为完善的优势，已经开始和GCA平起平坐，成为光刻机厂商双巨头。还有家公司Ultratech占约一成剩下的佳能，日立，PE等占比不足一成!

重点提一下1984年4月1日ASML成立，因为飞利浦在实验室里研发出stepper的原型，当然只是原型在一个光刻机市场依然很小，一年卖不了几台，在经过和其他光刻机厂商谈了谈，没人愿意购买这项不成熟的技术，不过有一个荷兰人愿意和飞利浦合作成立公司，并且厂房就在飞利浦的一个简易房里。

随即光刻机大战开始，因为半导体市场大滑坡导致市场萎缩，一众半导体厂商开始亏损倒闭，最后只剩下了巨头尼康，ASML因为背靠飞利浦虽然没卖出几台，但也能存活市场占有率不足一成，佳能也只是在旁边看个热闹!不过半导体领域的原生驱动力是摩尔定律，直到光刻技术被卡在193nm上十多年。挤了10多年牙膏的英特尔看不下去了，英特尔的芯片因为光刻机技术停滞不前也无法大幅度提高性能，大家请注意这个转折点!

英特尔说服了美国政府，以公司形式发起了EUV LLC这样的一个合作组织。集合了摩托罗拉，ADM，以及美国三大国家实验室，投资两亿美元集合几百位顶级科学家，从理论上验证光刻机技术发展方向之一EUV可能存在的技术问题。当然英特尔还邀ASML和尼康加入EUV LLC，因为此时美国光刻机厂商基本都倒闭了，因为ASML做出了对美国许诺的表态，被邀请加入还有一家例外的非美国企业英飞凌也被允许进入这个组织，那么尼康呢?被拒绝了!

集合了当时全世界顶级的科学家，世界顶级公司，还有光刻机制造的唯一仅存的几家企业，除了尼康，最终经过努力ASML胜出，当然代价是大半股份被美国英特尔，韩国三星，台湾台积电等客户拥有，当然以上公司的最大股东还都是美国，1997年-2003年，6年间EUV LLC的科学家发表了几百篇论文，验证了EUV光刻机的可行性，联盟解散!

那么验证好了之后，ASML从来没有犹豫过，直到2006年它推出原型，隔年建造了10000平米的超级无尘室，2010年诞生的第一台研发用样机：NXE3100。一台EUV光刻机重达180吨，零件超过10万个，安装调试需要一年时间，至此再也没有公司能够调整ASML了，因为这是全球智慧的结晶!

但令人意外的是为什么尼康后来落后了呢，因为虽然日本产业链很完善，但也无济于事，因为光刻机已经发展成为一个全人类的工业明珠!日本可以为明珠提供点什么，但是不能拥有，真正的拥有者只能是美国!

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