三星将研发EUV光刻胶 用于一条半导体工艺线生产

据ETNews消息，三星已经将韩国本土公司研发的EUV光刻胶(EUV PR)，用于一条半导体工艺线生产。

据悉，在日本限制出口EUV光刻胶后，韩国的东进世美肯公司就开始研发EUV光刻胶，并在去年通过了三星电子的可靠性认证，在不到一年的时间里，就将其应用到生产线。

不过，一条生产线仅是三星整个产品线中的一小部分，但是这是完全不依赖进口产品的生产线，因此具有特殊的意义。

由于需要考虑海外供应商之间的关系，目前尚不清楚三星是否会将东进世美肯EUV光刻胶用于更多的生产线。

据了解，光刻胶是半导体曝光工艺中的关键材料，它应用于芯片生产上。

当用半导体曝光设备照射光时，会发生化学反应并改变物理性质，通过用显影剂冲洗掉PR来绘制微电路，只留下必要的部分。

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